今下　勝博　　Imashita　Katsuhiro

社員 弁 理 士（登録番号：11579号，特定侵害訴訟代理付記） 　　 技 術 士（登録番号：34798号，化学部門）

専門：半導体・光学・材料・薄膜・装置部品・化学一般・包装 東京工業大学工学部無機材料工学科卒業 同大学院理工学研究科修了 麒麟麦酒（株）研究所で研究開発を担当。ＭＯＣＶＤ法による強誘電体薄膜の研究、３次元形状のガラス体への酸化物薄膜の蒸着技術、光機能性ガラス材料（SHG, PHB,レーザー）、ガラス建材、建材用溶射材、無機有機複合材料、プレスレンズ、ガラス封着材等の各種分野の研究開発を経験。食品包装・容器関連の開発を経験。 １９９７年　技術士（化学部門）登録 ２０００年１月　弁理士登録、同年特許事務所参画 ２００３年１月　アイル知財事務所設立 日本弁理士会発明相談員を担当。 論文： 1.Preparation of TiO2-ZrO2 Films by MOCVD, （J. Chem. Soc. Japan)[12] 1395-1401 (1990), 2.Formation of Epitaxial Pb(Zr,Ti)O3 Films by CVD., (J. Ceram. Soc. Japan), 99 [3] 248-250 (1991) 3.Growth of Epitaxial PLZT Films by CVD,(J. Ceram. Soc. Japan), 99 [12] 1169-1171 (1991) 4.Deposition Condition of Epitaxially Grown PZT Films by CVD., （J. Ceram. Soc. Japan,） 102 [8] 795-798 (1994) 5.Characterization of Epitaxially Grown CVD-Pb(Zr, Ti)O3 Films with High Deposition Rate., （J. Ceram. Soc. Japan）, 102 [2] 114-118 (1994) 6.開発者から見た知的所有権、包装技術、平成１６年４月号、26-30頁